塑料镀膜反光杯生产厂家诚信企业「在线咨询」
作者:锦城镀膜2020/3/11 21:18:53





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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :

从被沉积物质的气化方式看,真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等;溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发,而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子;佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑 镀膜为主的***生产厂家,公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花。离子镀可以分为蒸发式或者溅射式,蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等,溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供,反应物沉积在基片上。

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

金属过渡层:过渡层能有效的减小膜-基或不同镀层间因材料热膨胀系数等物理性能不同而形成的应力,提高结合力,但是金属过渡层太厚容易引起基体软化,结合力反而会变差。

占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,增大占空比可以提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;很多标榜无机类镀膜的产品,其实本身并不是真正的无机物,夸大其词的宣传往往给消费者造成信息误导。减小占空比有利于***打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。

真空度:真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度,用压强表示,压强越低,其稀薄程度越大,真空度越高。镀膜过程中,真空度主要通过控制ya气流量来改变。


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