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作者:锦城镀膜2020/10/19 0:00:57






镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,这是保证膜色调纯正的重要因素之一。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠近发热棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。

离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。



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机械零件的失效多数是因为表面发生磨损、腐蚀。人们早就认识到,通过改变零件表面的成分结构,能有效的改变零件的性能,延长其寿命。阐述了几种常见镀膜工艺的特点,进行工艺比较,结合当前的实际应用对镀膜的应用做了一定的归纳和总结,对未来镀膜工艺进行展望。比如含有j基(Me化学式-CH3)的化合物,因成分中含有碳氢基团,都属于有机类物质。


真空镀膜的形式:蒸发镀膜

工艺原理:


4)沉积原子之间产生两维碰撞,形成簇团,有的在表面停留一段时间后再蒸发;

5)原子簇团与扩散原子相碰撞,或吸附单原子,或放出单原子,这种过程反复进行;

6)当原子数超过某一临界值时就变为稳定核,再不断吸附其他扩散原子而逐步长大,后与邻近稳定核合并进而变成连续膜。



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