厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。


对于减薄后的基板，晶圆经过一面的电镀后，会产生一个大的弯曲，这使得电镀晶圆另一面时更加困难。在基板两侧和通孔内用一种单一的工序电镀，也可以大大简化Das等人讨论的3D结构转接板的加工。参考文献2介绍了用导电胶填充转接板通孔的工艺。对基板双面及通孔电镀互连，不仅能简化工艺流程，而且会提供更好的电气和热传导性能。你都了解了吗？

鞋材真空镀膜材料喷涂技巧, 大多数塑料在真空镀膜之前，一般先要涂覆底涂层，主要原因是有以下几点：

塑料在成型后，表面肯定有一定的粗糙度，真空镀膜材料，比如有0.5μm的粗糙度。

真空镀膜层很薄，很难掩盖基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技术，光固化涂层厚度约10~20μm，涂层自身粗糙度在0.1μm以下，因此可大大提高镀层的光亮度。