真空电镀时产生掉膜的原因很多也很复杂。处理起来很棘手，可以考虑从以下几个方面排除：

真空镀膜时产品掉膜有那些原因？

1、表面清洁度

产品表面洁净度不够，可以考虑离子源清洗时亚气放大、时间长点。

2、清洗过程中的问题

镀前清洗不到位，或更换了清洗液。

3、工艺的问题

工艺参数是否有变动，在镀膜时间和电流上做适当调整。

4、真空腔是否漏气

进行一次捡漏。

5、产品表面氧化

氧化的原因很多，可以自行判断处理。

化学镀与电镀从原理上的区别就是电镀需要外加的电流和阳极，而化学镀是依靠在金属表面所发生的自催化反应。

化学镀镍层是极为均匀的，只要镀液能浸泡得到，溶质交换充分，镀层就会非常均匀，几乎可以达到仿形的效果。

电镀无法对一些形状复杂的工件进行全表面施镀，但化学镀过以对任何形状工件施镀。

高磷的化学镀镍层为非晶态，镀层表面没有任何晶体间隙，而电镀层为典型的晶态镀层。

电镀因为有外加的电流，所以镀速要比化学镀快得我，同等厚度的镀层电镀要比化学镀提前完成。

真空电镀厂用来促进均匀电流分布的辅助阳极或挡板应能够直接固定在吊架上，或以其他方式安装以确保位置合适且不会随意改变。不论其布置方式如何，都必须根据测试结果在校正后确定其与电镀部件之间的相对位置。吊架和电镀部件之间的干扰通常是由于电镀槽中的过大负荷所致。镀层零件的过度加载会导致镀液不稳定，并且零件之间的镀层厚度无法平衡。同时，不能保证镀液的对流，搅拌和加热绝缘。