东莞真空电镀磁场是正交运作的，但你要将真空电镀磁场强度做到均匀是不可能的，一般磁场强的地方，真空电镀成膜厚度就大，相反就小，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于真空电镀磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，为什么呢？

东莞真空电镀亚气的送气均匀性也会对膜层均匀性产生影响，真空电镀其原理实际上和真空度差不多，因为亚气的进入，真空室内压强会产生变化，均匀的压强大小可以控制成真空电镀膜厚度的均匀性。

使用磁控溅射的东莞七彩电镀设备一般采用的是圆筒主体结构，结构上要保证快速抽空，因气袋会缓慢的放气，因此要避免出现隔离孔穴，真空系统上端会加装磁控溅射枪，七彩电镀设备为了使真空室和元件有足够的强度，保证在外部和内部的作用力下不产生形状的变化，厚度需要足够。

东莞七彩电镀设备焊接是真空室制造中的一道关键工序，保证焊接之后的真空室不会产生漏气现象，须合理设计焊接结构，提高焊接质量，七彩电镀设备处在超高真空的内壁粗糙度要抛光使室外室内表面很光洁，须特别注意的是防止生锈。

真空电镀加工技术一般分为两大类，即物***相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。

物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。