经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过***制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

胶片上被极亮度光线照射的区域，在显影时。其上几乎所有的卤化银晶体都将转化成黑色的金属银，这些区域在底片上是黑色的。

胶片上被中等亮度光线照射的区域，在显影时，其上绝大多数（并非全部）卤化银晶体将会转化成黑色的金属银，这些区域在底片上是暗***的。

胶片上被很弱光线照射的区域，在显影时，其上只有少量卤化银晶体转化成黑色的金属银，这些区域在底片上是浅***的。

显影液液温应控制在一定范围内，如果显影液温度低,显影液化学活性降低，溶解感光胶层能力下降，显影不充分，

图文部分的网点百分率比正常的扩大，并且空白部分起脏。 显影液温度过高也会使已***的图文部分溶解，网点还原性变差，同时造成耐印力降低。

比较适宜的显影温度范围是20~25℃。显影时间对PS版的显影质量有直接的影响，显影时间不足，非图像部分的感光层不能彻底溶解，会引起版面起脏。

不能用金属盆)显像:膜面朝上放入感光板(双面板须悬空)每隔数秒摇晃容器或感光板，直到铜箔清晰且不再有绿色雾状冒起时即显像完成。此时需再静待几秒钟以确认显像完成。标准操作显像时间约1-2分钟，显影可在一般光线下进行，关键的就是要随时注意观察显影的进度，不可照搬显影时间。3.水洗:4.干燥及检查:为了确保膜面无任何损伤，能做到此步骤。即利用吹风机吹干，短路处请用小刀刮净，断线处用油性笔等修补。