经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻:一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻,指通过***制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
自然干燥时间过长造成暗感光。
一般丝网印刷在上胶后用 38-40摄氏度烘干,完成zhi烘干后的网版必须尽快***/显影。
如果制版数量很大,不需要使用烘干设备,可以考虑存放于空调房间(25摄氏度),这样可以延长未***前的保存时间。但是上胶后的网版,一般不允许存放超过4-6小时。1,可能是感光胶与重氮感光剂配比不正确。
2,可能是配置好的zhi感光胶存放于光亮处或温度较高的地方,或存放时间过长,放置超过72小时。
3,可能是上胶后的丝网烘干温度过高或时间过长。
在对实际景物拍摄时,胶片***量多的部位,形成的金属银多,致黑程度大,影像密度高;***量少的部位,形成的金属银少,致黑程度小,影像密度低。得到的影像与实际景物的明暗程度相反,即得到负像。(1). 在暗室中全黑的条件下,将已经拍摄好的胶卷从暗盒中取出,缠绕在显影罐的片盘上,然后盖上显影罐的盖子;
(2). 向显影罐连续注入D-76 显影液,直到全部注满为止,然后不断摇动显影罐进行搅
拌,在规定时间完成显影;
(3). 倒出显影液,用清水冲洗30 秒,然后注入柯达F-5 酸性定影液,搅拌10 分钟,完
成定影;
(4). 倒出定影液,取出冲洗加工好的胶卷,用清水冲洗干净,凉干。
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