当光线照bai射到乳剂时，卤化银中的微小晶体会发生du变化，手机壳曝光显影公司，当显影时zhi，受到光线照射而发生dao变化的晶体会形成黑色的金属银晶体。结果画幅中受到光线照射的区域会转变为底片上暗黑色的金属银区域。

画幅中那些没有受光线照射的区域又会怎样呢？这些区域的卤化银晶体没有变化，手机壳曝光显影价格，在显影过程中就会被冲洗掉。因此，画幅中没有受到光线照射的区域在底片上会变为空的区域。这些区域中所剩下的只是胶片的透明片基。

实际曝光bai能量需根据干膜种类、厚度du或油墨种类/厚度/烘烤时间确定，正常线路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2，油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2，具体以曝光尺为准；线路曝光尺5 --8格，油墨的曝光尺做到9--13格。

曝光时必须抽真空充分，手机壳曝光显影工艺，以免曝光不良，一般要求650mmHg以上真空度；

显影时，显影点控制在50 --70%以内，手机壳曝光显影，压力1.5--2.0kg/cm2。

曝光过度会导致显影不净；曝光能量不足会导致显影过度。

经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

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