所谓显影点，发生在光阻***后以显影液显影的过程中，当所要去除的所有光阻区域都恰好去除时，这个作业点就是显影点。显影点的前后，受到显影设备速度、喷压、药液温度、药液浓度、光阻特性等影响。要获得良好显影效果，保证显影良好、分辨率恰当，除了要有良好***，一般都会将显影点设在设备长度50~80%的位置，以免显影过度或不足。

抗酸性油墨大多是一些碱溶性油墨，经蚀刻后的防蚀层可用碱性溶液去除掉，这种类型的油墨中都会有可皂化或溶于碱性溶液的基团，这是目前在金属蚀刻中应用得广泛的油墨。

防蚀材料是保证蚀刻质量的重要因素，劣质的油墨可能引起砂眼、白点、起泡、表面不均匀的情况出现，严重影响蚀刻图案的质量，或者脱墨困难，也对产品质量造成影响。同时防蚀材料的厚度与烘烤时间也是影响蚀刻质量的重要因素，因此拥有蚀刻经验丰富技术人员至关重要。

1.预喷淋：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水。

2.显影喷淋：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。

3.显影液表面停留：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。

4.显影液去除并且清洗：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。图1.13是一个典型的去离子水冲洗工艺。

5. 甩干：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速