低辐射镀膜玻璃的出产工艺分为在线高温热解沉积法（在线法）和离线真空溅射法（离线法）。在线法出产的低辐射镀膜玻璃能够热弯、钢化，能够单片运用，膜层宜面向室内；离线法出产的低辐射镀膜玻璃耐酸碱性和耐磨性差，不能单片运用，在组成中空玻璃时，应将玻璃边部和密封胶接触部位的镀膜去除，镀膜面应坐落中空气体层内，一般装置在中空玻璃的第三面，以充分利用低辐射镀膜玻璃优异的保温功能和遮阳功能。

使用前各电源开关及操作按钮应处于断开位置，接通水源，气源，电源。

1）打开真空控制电源开关。

2）开维持泵对扩散泵抽低真空，并测量前级真空度。

3）待前级压力达到5.0*10pa后，开扩散泵加热。

4）开充气阀，对镀膜室充气，打开镀膜室门，装好清洗干净的工件，关好炉门。

5）待扩散泵正常工作一小时后，开机械泵开预抽阀，对真空室手抽真空至1.0*103pa，然后开罗茨泵。

在理论上，不但镀膜的生长机理需要搞清光学镀膜，而且镀膜的光学理论，特别是应用于极短波段的光学理论也有待进一步完善和改进。在工艺上，人们还缺乏有效的手段实现对镀膜淀积参量的精准控制，这样，镀膜的生长就具有一定程度的随机性，镀膜的光学常数、镀膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不稳定性和盲目性，这一切都限制了光学镀膜质量的提高。所以，光学镀膜发展至今也可以说是一个飞跃性的进步了，今天联盈光学一起来认识一下生活当中常见的几种光学镀膜。

全电介质反射膜是建立在多光束干涉基础上的。与增透膜相反，在光学表面上镀一层折射率高于基体材料的镀膜，就可以增加光学表面的反射率。简单的多层反射膜是由高、低折射率的二种材料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长的四分之一。在这种条件下，参加叠加的各界面上的反射光矢量，振动方向相同。合成振幅随着薄膜层数的增加而增加。

原则上说，全电介质反射膜的反射率可以无限接近于1，但是薄膜的散射、吸收损耗限制了薄膜反射率的提高。迄今为止，激光反射膜的反射率虽然已超过99.9%，但有一些工作还要求它的反射率继续提高。应用于强激光系统的反射膜，则更强调它的抗激光强度，围绕提高这类薄膜的抗激光强度所开展的工作，使这类薄膜的研究更加深入。