光学镀膜由薄的分层介质构成的，经过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的使用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。

吸收介质：能够是法向均匀的，也能够是法向不均匀的，实际使用的薄膜要比抱负薄膜复杂得多，这是因为，制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射，膜层之间的相互渗透形成扩散界面，因为膜层的成长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性，膜层具有复杂的时刻效应。

链条隧道式传递机构的缺陷是，1、真空室之间的连接阀门需要较大尺寸，这样，不同真空室之间的气氛容易互串，进而降低镀膜质量、成品率等；2、需要较高的设计精度、加工水平，由于是柔性结构，容易出现匹配不准确，导致传送出现故障。真空镀膜机往复步进齿条推杆式传送机其传递过程为，固定在镀膜室顶上或底盘上（与公转盘同一侧）、并可以往复运动的齿轮G、齿条H－推杆机构，顺序实现自转工件杆Am从真空室M的公转盘Jm向真空室N的公转盘Jn的传递。齿轮、齿条所用的动力是通过轴密封在真空室外的电机来实现。为使自转工件杆脱离公转盘进入下一个公转盘，在公转盘与自转轴之间采用开放式连接，同时在固定于镀膜室内并维持自转的内齿轮盘相应位置开口，实现自转工件杆从镀膜室M传送到下一个镀膜室N。


由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能，所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损耗大，反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高，可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层，组成金属电介质反射膜。需要指出的是，金属电介质反射膜增加了某一波长（或者某一波区）的反射率，却***了金属膜中性反射的特点。