真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。

物***相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，办公用品渐变供应商，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，办公用品渐变，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。

虽然镀膜的光学现象在很早就为人们所注意，办公用品渐变报价，但是把光学镀膜作为一个课题进行专门研究却开始于20世纪以后，这主要因为真空技术的发展给各种光学薄膜的制备提供了先决条件。发展到今日，光学镀膜已得到很大发展，光学镀膜的生产已逐步走向系列化、程序化和***化，但是，在光学镀膜的研究中还有不少问题有待进一步解决，光学镀膜现有的水平在不少工作中还不能满足要求，需要提高。

滤光片特点：其主要特点是尺度可做得相当大，薄膜滤光片，一般透过的波长较长，多用做红外滤光片，后者是在一定片基，用真空镀膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金属-介质-金属膜，或全介质膜，构成一种低级次的﹑多级串联实心法布里与仪，膜层的材料﹑厚度和串联方法的选择，由所需要的中心波长和透射带宽λ确认。

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