光学镀膜由薄的分层介质构成的，经过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的使用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。

吸收介质：能够是法向均匀的，也能够是法向不均匀的，实际使用的薄膜要比抱负薄膜复杂得多，这是因为，制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射，膜层之间的相互渗透形成扩散界面，因为膜层的成长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性，膜层具有复杂的时刻效应。

真空镀膜机表面技术将是未来钢铁企业产品的创新***，是企业未来竞争力所在开发新一代连续带钢镀膜技术与产品将是应对市场需求，提高企业竞争力的超佳途径。新型表面工艺和产品实现工业化将可能对钢铁企业和上下游的行业的生产工序产生革命性的影响。

市场需求和现有工艺局限性的矛盾，难以通过传统生产线的优化改造来实现，越来越严格的环保标准也要求钢铁企业寻找新型环保的表面处理和涂镀技术，在这方面，目前钢铁业的***人士普遍认为超有希望，超具特色的技术研发方向就是真空镀膜技术。

镀膜机抽气不均会影响镀膜均匀性。基片干净很重要。真空镀膜前要将基片表面认真清洁干净，达到工件去油、去污和脱水的目的。基板表面污染从零件在加工，运输等过程中附着的各种各样的灰尘、油脂、抛光膏、汗渍等，在潮湿环境下，基片表面易氧化，形成氧化膜吸附气体。对于这些污物，都能用去油或化学方法清洗干净。干净的基片不要直接放在外面，需要用封闭容器存放，减少沾污。镀膜室内也是会积灰的，所以要清洗镀膜室内，烘烤除气，并将机器放置在干净的环境里。注意扩散泵返油。镀膜的原材料有很多，如树脂、硅酮、硅盐酸、聚合物等，辅料、配方的比列有所不同，薄膜也不同。