东莞市仁睿电子科技有限公司是国内一批电子部件加工供应商。专注PMMA/PC材料注塑、渐变、加硬(硅化)、印刷、光学镀膜等整套工艺十五年。
常用的光学镀膜有哪些?
虽然薄膜的光学现象早在17世纪就为人们所注意,光学镀膜加工,但是把光学薄膜作为一个课题进行专门研究却开始于20世纪30年代以后,这主要因为真空技术的发展给各种光学薄膜的制备提供了先决条件。发展到今日,光学薄膜已得到很大发展,光学薄膜的生产已逐步走向系列化、程序化和***化,但是,在光学薄膜的研究中还有不少问题有待进一步解决,光学薄膜现有的水平在不少工作中还不能满足要求,需要提高。在理论上,不但薄膜的生长机理需要搞清光学薄膜,而且薄膜的光学理论,特别是应用于极短波段的光学理论也有待进一步完善和改进。在工艺上,光学镀膜加工厂,人们还缺乏有效的手段实现对薄膜淀积参量的精准控制,这样,薄膜的生长就具有一定程度的随机性,薄膜的光学常数、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不稳定性和盲目性,这一切都限制了光学薄膜质量的提高。
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光学镀膜薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发,或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量,传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。IAD沉积导致电离化蒸汽的直接沉积并且给正在生长的膜增加活化能,通常为50eV量级。离子源将束流从离子枪指向基底表面和正在生长的薄膜来改善传统电子束蒸发的薄膜特性。
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