目前抛光机是实现单晶硅片全局平面化的技术设备

目前抛光机是一实现单晶硅片全局平面化的技术设备，采用该方法可使整个硅片获得超光滑和无损伤的表面。其中，抛光液的质量是影响CMP效果的一个关键因素。

目前，硅片CMP普遍使用粒径为50~70 nm的球形SiO2为磨粒。作为一种***抛光粉，纳米CeO2已广泛应用于超大规模集成电路SiO2介质层和隔离沟槽的化学机械抛光，具有高抛光效率和高表面质量等优点。有研究表明，将球型纳米CeO2用于单晶硅片的化学机械抛光时，其抛光效率比球形SiO2高。

不过，平面抛光机纳米CeO2抛光硅片的研究还处在初始阶段，抛光液制备技术及相关抛光机理有待进一步完善。我国稀土资源居世界首位，如能开发出适于硅片抛光的纳米CeO2抛光液，将会促进硅片超精密加工技术的发展，社会经济效益可观。由此可见稀土抛光粉在单晶硅片的抛光过程中有着重要的作用，对单晶硅片的平面抛光机市场也有着相当大的影响。单晶硅片的平面抛光机技术在行业内的应用前景非常大，发展还有很大空间。

全自动拉丝机耗材-陶瓷砂带有哪些？

在拉丝机领域，陶瓷拉丝机耗材是一个高大上的存在，异型数控拉丝机，其产品具有大切削量和冷态磨削等特性，陶瓷砂带能保证更快的磨削和更好的表面拉丝机质量以及优异的去除率。冷磨削能延长工作寿命，防止表面伤害变色。该产品产品特别适合用于磨削不锈钢、高合金钢、钛合金和镍基合金。由于陶瓷磨料具有很高硬度，数控拉丝机，他们也被利用与打磨超硬度材质的产品。

一般使用的设备有四磨头水磨碎纹拉丝机，和三磨头水磨输送式直纹拉丝机。还有水磨三角台拉丝机等。

1.滑轮式拉丝机：结构简单，操作、维护方便，成本低

与其他几种设备相比，滑轮式拉丝机在价格上优势明显，不锈钢数控拉丝机，该设备所需成本低，管理方便，在操作过程中省时省力，在生产上具有一定的积线系数，锌合金数控拉丝机，钢丝在卷简上停留的时间较长，有利于钢丝的充分冷却。适合于拉拔中、小规格，质量和强度要求相对较低的低碳钢丝和其它金属丝。

2.双卷筒式拉丝机：冷却效果好

虽然双卷筒式拉丝机在操作工序上稍微复杂了一些，生产速度方面也并没有明显的改善，但是在很大程度上提高了拉拔过程中钢丝的质量，钢丝扭转现象得到控制，而且在卷筒上的冷却效果更好。该机型属于由滑轮式拉丝机向更高等级拉丝机发展的过渡机型，适合于拉拔中、小规格钢丝，不适合拉拔大规格强度高的钢丝。

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