石基 蚀刻厂、石基 金属蚀刻、石基 腐蚀加工
作者:2019/3/8 12:49:33

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蚀刻加工
材料材质:
SUS304不锈钢/铜/铝/铁
材料厚度(公制):
0.03-1.0mm
产品用途:
蚀刻加工 主要应用于精密工程,电子,通讯,家电行业,工艺礼品


产品特点:
蚀刻加工线条均均,***剌,无缺口
产品价格:
以材料材质、厚度、精度要求、量产数量综合核定
蚀刻加工能力:
三条蚀刻生产线,25米蚀刻机可大批量生产,每天生产高达1000平方米
样品提供:
付费打样,样品3天内,***快24小时出样!
批量生产时间:
正常一星期内.
侧蚀产生突沿。通常印制板在蚀刻液中的时间越长,(或者使用老式的左右摇摆蚀刻机)侧蚀越严重。侧蚀严重影响印制导线的精度,严重侧蚀将使制作精细导线成为不可能。当侧蚀和突沿降低时,蚀刻系数就升高,高的蚀刻系数表示有保持细导线的能力,使蚀刻后的导线接近原图尺寸。电镀蚀刻抗蚀剂无论是锡-铅合金,锡,锡-镍合金或镍,突沿过度都会造成导线短路。因为突沿容易断裂下来,在导线的两点之间形成电的桥接。


金属蚀刻工艺流程和其他工艺流程一样也有其自身的特点,只有对金属蚀刻工艺流程的特点有一个充分的认识,才能设计出所需要的工艺流程。金属蚀刻工艺流程的特点主要表现在目标性、内在性、整体性、动态性、层次性、结构性、可操作性、可管理性、稳定性、***性和强制执行性等10个方面,下面就针对这些要素进行分析讨论。 1.目标性所谓目标性,就是通过某一工艺流程的全过程有一个明确的输出,或者说要达到某一特定的目的。对于金属蚀刻而言,这个目的就是满足其设计图纸对产品的要求。更具体地说,这些要求包括产品的蚀刻尺寸要求、经蚀刻后的表面粗糙度要求等。比如,对于装饰用途的图文蚀刻产品,经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:①要求经蚀刻后的图文清晰度要高;②要求经蚀刻后金属表面粗糙度要符合设计要求;③要求图文的蚀刻深度要满足设计要求;④工件在蚀刻过程所发生的形变要在设计规定的范围之内;等等。再如,对于结构用途的产品,经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:①经蚀刻后的工件其蚀刻深度是否在设计规定的公差范围之内;②经蚀刻后的工件其横向蚀刻尺寸变化后的实际尺寸是否在设计规定的公差范围之内,③经蚀刻后的工件表面粗糙度是否满足设计要求;等等。从上面两个例子可以看出,不同的产品其***终的要求是不一样的,这就需要在设计工艺流程时提出关键工序控制点及控制方法,才能***终满足通过所设计的工艺流程加工的产品保证设计目标能够达到。


酸性氯化铜蚀刻液 1) 蚀刻机理: Cu+CuCl2→Cu2Cl2 Cu2Cl2+4Cl-→2(CuCl3)2- 2) 影响蚀刻速率的因素:影响蚀刻速率的主要因素是溶液中Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蚀刻液的温度等。 a、Cl-含量的影响:溶液中氯离子浓度与蚀刻速率有着密切的关系,当盐酸浓度升高时,蚀刻时间减少。在含有6N的HCl溶液中蚀刻时间至少是在水溶液里的1/3,并且能够提高溶铜量。但是,盐酸浓度不可超过6N,高于6N盐酸的挥发量大且对设备腐蚀,并且随着酸浓度的增加,氯化铜的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蚀刻速率的原因是:在氯化铜溶液中发生铜的蚀刻反应时,生成的Cu2Cl2不易溶于水,则在铜的表面形成一层氯化亚铜膜,这种膜能够阻止反应的进一步进行。过量的Cl-能与Cu2Cl2络合形成可溶性的络离子(CuCl3)2-,从铜表面上溶解下来,从而提高了蚀刻速率。 b、Cu+含量的影响:根据蚀刻反应机理,随着铜的蚀刻就会形成一价铜离子。较微量的Cu+就会显著的降低蚀刻速率。所以在蚀刻操作中要保持Cu+的含量在一个低的范围内。 c、Cu2+含量的影响:溶液中的Cu2+含量对蚀刻速率有一定的影响。一般情况下,溶液中Cu2+浓度低于2mol/L时,蚀刻速率较低;在2mol/L时速率较高。随着蚀刻反应的不断进行,蚀刻液中铜的含量会逐渐增加。当铜含量增加到一定浓度时,蚀刻速率就会下降。为了保持蚀刻液具有恒定的蚀刻速率,必须把溶液中的含铜量控制在一定的范围内。 d、温度对蚀刻速率的影响:随着温度的升高,蚀刻速率加快,但是温度也不宜过高,一般控制在45~55℃范围内。温度太高会引起HCl过多地挥发,造成溶液组分比例失调。另外,如果蚀刻液温度过高,某些抗蚀层会被损坏。
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