当前，等离子清洁和紫外线臭氧清洁技术是干洗的代表。由于等离子体已经在半导体的制造过程中使用了很长时间，因此众所周知。由于的等离子技术需要高质量的放电等离子，因此所谓的低温等离子（一种低压气体）是主流，但是等离子的应用正在增加，因此有一种可根据客户需求在大气压下使用的等离子技术。出生了 ，UV灯管SP-5-2L，UV臭氧技术还仅使用低压灯，但是瑞士的布朗·鲍伯公司（BBC）从准分子激光器研发出了当前的Xe准分子灯，UV灯管，现在已经它已经成长为紫外线臭氧技术的一部分。使用紫外线臭氧和等离子的干洗技术也具有修饰效果，并且已经发展成为提高***技术产品的质量和提高产量所必不可少的技术。但是，由于信息不足，用户难以选择适合其应用的技术，包括成本。比较这四种技术的优缺点非常困难，但是在将来，UV灯管SUV110GS-36，我们将努力为用户提供能够对四种技术进行准确比较的信息。引用文献

1）

堂桥吉久，“关于CFC替代清洁技术”，UV灯管SP-5-2H，岛田梨香技术报告，1（1），5（1991）2）小叶阳一，“玻璃表面设计，清洁和表面处理”，Kyundaisha，号Edition，（1983）pp.76-139

3）JIS K 6768：塑料和片材的润湿张力测试方法

台式准分子设备

台式准分子设备名称台式表面处理设备型号XPL1504总览去除172 nm光能的纳米级有机污染物使用方法?光学玻璃，基板等的表面清洁

?难以附着的塑料的附着力提高

特色功能?可以轻松照射172 nm。

?可以安装1至4个灯

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湿式清洁的个特点是在清除大量污垢方面表现出色，但是当污垢变小时，清洁效率会降低，清洁剂本身会残留在表面上，反而成为污染源。用紫外线臭氧或等离子干洗不适合去除大的污染物，但是它的优点是可以在分子和原子水平上对污染物进行高度处理。表2显示了使用普通窗户玻璃作为样品对水滴的接触角进行的典型湿法清洁，等离子清洁和UV清洁能力的评估结果。下表中的UV臭氧清洁结果是我们的内部数据。由于等离子体清洁和紫外线臭氧清洁而产生的4至5度的水滴接触角值是接触角计的测量极限，因此实际上都可以视为0度。

根据该表，难以将湿式清洁剂的接触角减小至10度以下，但是干洗具有在短时间内将接触角减小至0度的能力。有趣的是，当用酒精擦拭和用烃溶剂清洗时，接触角更高。由于手擦是非常不稳定的方法，因此在此省略评估，但是当用烃溶剂洗涤时接触角的增加非常高。这是本领域中众所周知的现象，当在清洁玻璃的后步骤中使用玻璃基溶剂时，结垢明显增加。尽管碳氢化合物溶剂具有很大的溶解油性污染物的能力，但溶剂本身也保留在表面上，并且几个分子层仍然吸附在玻璃上。可以看出，将清洗后的玻璃彻底干燥然后加热至数百度时，由于碳化溶剂，玻璃表面变为鲜红色。取决于样品的储存历史，换句话说，表面上的污染程度，仅使用干洗是低效的。重要的技术诀窍是预先掌握要清洁的物体的污染状态，并结合适用于这种情况的湿式清洁和干洗。

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