当前，等离子清洁和紫外线臭氧清洁技术是干洗的代表。由于等离子体已经在半导体的制造过程中使用了很长时间，因此众所周知。由于的等离子技术需要高质量的放电等离子，因此所谓的低温等离子（一种低压气体）是主流，但是等离子的应用正在增加，因此有一种可根据客户需求在大气压下使用的等离子技术。出生了 ，UV臭氧技术还仅使用低压灯，但是瑞士的布朗·鲍伯公司（BBC）从准分子激光器研发出了当前的Xe准分子灯，现在已经它已经成长为紫外线臭氧技术的一部分。使用紫外线臭氧和等离子的干洗技术也具有修饰效果，并且已经发展成为提高***技术产品的质量和提高产量所必不可少的技术。但是，由于信息不足，用户难以选择适合其应用的技术，包括成本。比较这四种技术的优缺点非常困难，但是在将来，日森，我们将努力为用户提供能够对四种技术进行准确比较的信息。引用文献

1）

堂桥吉久，“关于CFC替代清洁技术”，岛田梨香技术报告，1（1），5（1991）2）小叶阳一，日森BC110-W，“玻璃表面设计，清洁和表面处理”，Kyundaisha，号Edition，日森HL1000DL-1，（1983）pp.76-139

3）JIS K 6768：塑料和片材的润湿张力测试方法

紫外线水杀菌装置ST401S

光源ST401S

控制电源BU401T

光源

型式ST401S

使用ランプSUV40DH/L-2×1本

寸法*１φ185×744mm

型式BU401T-**

寸法304×470×220mm

処理温度10～40℃

周囲温度5～40℃

定格入力源AC100V

重量13kg

紫外线杀菌水设备SS902SN

光化学反应实验装置VG500 set

品名光化学反応実験装置

型式VG500 set

概要目的用途に合せて高圧もしくは低圧のランプを選定し光反応させる装置です。

用途

?薬品の合成

?光重合、光分解のプラント

特徴?

データ光化学反応は励起された分子の反応で、普通の合成法では何段階も反応を重ねなければならないものが、光化学反応では短縮でます。

轻清洁（UV臭氧清洁

等离子清洁

离子清洁

溅射清洁

真空加热清洁

鼓风清洁

/干喷法

/冷喷法湿清洁含水清洁

表面活性剂的碱性

的表面活性剂的碱系溶剂

，日森Hl-1000Dl-25，碱性

臭氧水

-酸型

的等功能性水

的非水清洗技术

溶剂：烃，醇

文件类型，卤素型，硅，

乙二醇醚型，

聚乙烯吡咯烷酮

轻清洁（UV臭氧清洁

等离子清洁

离子清洁

溅射清洁

真空加热清洁

鼓风清洁

/干喷法

/冷喷法湿清洁含水清洁

表面活性剂的碱性

的表面活性剂的碱系溶剂

，碱性

臭氧水

-酸型

的等功能性水

的非水清洗技术

溶剂：烃，醇

文件类型，卤素型，硅，

乙二醇醚型，

聚乙烯吡咯烷酮

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