红外热像仪揭示微电子设备的热特性
在开发电子设备和微电子设备的过程中,瞬态热信息对确认设备或设备特定部分是否正常运行至关重要。此外,下一代微电子设备的性能将取决于对用于微电子器件的各种材料的热物理特性的更好理解。在阿林顿的得克萨斯大学,以微型热物理学实验室主任Ankur Jain博士为首的团队研究与微尺度热传导有关的各种话题。该实验室采用各种现代设备和仪器,包括FLIR红外热像仪。
在过去几十年中,微型化是微电子行业的重点发展方向。更小型的设备运行速度更快且具有更紧凑的系统。纳米技术和薄膜处理领域的进步已延伸到各种技术领域,包括光伏电池、温差电材料和微机电系统(MEMS)。这些材料和设备的热属性对于这类工程系统的持续发展至关重要。但是,这些系统存在与热传导有关的各种问题。为了更有效地解决这些问题,全面了解微型材料的热传导性质至关重要。
Ankur Jain博士负责微型热物理实验室,在实验室里他和他的学生进行关于微尺度热传导、能量转换系统、半导体热管理、生物传热等相关话题的研究。三维集成电路(IC)中的热耗散是一大技术挑战,阻碍了该项技术的普及,尽管在过去一二十年中进行了大量相关研究。因此,微型热物理学实验室的研究人员开展实验以测量三维集成电路的关键热特性,开发分析模型以了解三维集成电路中的热传导。
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