退火炉

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退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。

退火炉简介

热处理炉分为退火炉、淬火炉、回火炉、正火炉、调质炉，主要用于大型碳钢、合金钢零件的退火；表面淬火件回火；焊件消除应力退火、时效等热处理工艺。加热方式有电加热、燃油、燃气、燃煤、热风循环。退火炉是一种新型换热设备。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。

真空退火炉主要结构形式

主要结构形式：该炉主要由炉罩、炉罩驱动机构、节能型全纤维耐火炉衬、高温高辐射电热元件、软密紧机构、炉台、炉台导电电极箱、智能PID温度程序控制系统等主要部分组成。5.1．炉罩壳体：主要采用优质国标型钢骨架及钢板焊接而成，保证了炉子的密封性能及足够的刚强度，且所有焊缝均匀平滑，无气孔、夹杂、未熔合等缺陷，炉壳外观平直、美观。炉壳外电热元件引出棒集中分布，并外设防护罩。