高纯氧气 - 性质介绍

纯度(V/V)：99.999%

执行标准 ：国标

产品介绍 ：

氧一种化学元素。化学符号O，原子序数8，原子量15.9994，属周期系ⅥA族。氧的存在氧有三种稳定同位素，即氧16、氧17和氧18，其中氧16含量占99.759％。氧在地壳中的含量为48.6％，居首位，氧在地球上分布极广，大气中的氧占23％，海洋和江河湖泊中到处都是氧的化合物水，氧在水中占88.8％。地球上还存在着许多含氧酸盐，如土壤中所含的铝硅酸盐，还有硅酸盐、氧化物、碳酸盐的矿物。高纯气体对于不同类别的气体，纯度指标不同，例如对于氮，氢，氦而言，通常指纯度等于或高于99。大气中的氧不断地用于动物的新陈代谢，***中氧占65％，植物的光合作用能把二氧化碳转变为氧气，使氧得以不断地循环。虽然地球上到处是氧，但氧主要是从空气中提取的，有取之不尽的资源。

2）使用时，首先要做外部检查，检查***是瓶阀、按管螺纹、减压器等。如果发现有漏气、滑扣、表针动作不灵或“爬高“等，应及时维修，切忌随便处理。禁止带压拧紧阀杆，调整垫料。检查漏气时应用肥皂水，不得使用明火。气瓶与电焊在同一场使用时，瓶底应垫上绝缘物，以防气瓶带电。实际上，由于氧化镁用途较广，供货商都是根据用户要求进行生产，包括要求的杂质含量、特定物理指标等。与气瓶接触的管道和设备要有接地装置，防止由于产生静电造成燃烧或爆l炸。冬季使用电瓶时，瓶阀或减压器可能出现结霜现象，或用热水或蒸汽解冻，严禁用火烘烤或用铁器敲击瓶阀，也不能猛拧减压器的调节螺丝，以防气体大量冲出造成事故。

三氟化氮主要用途是用作氟化l氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中***有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。使用气体时应使用相应减压阀（减压表），并检测管道气密性，严禁漏气状态下使用气体。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。