三氟化氮主要用途是用作氟化l氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中***有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。

高纯氧气高炉能源节约的概念

高纯氧气高炉特点

首先，氧气高炉将纯氧气代替热风注入，高纯氧气高炉能以更高生产率运行。在氧气高炉中，由于在无氮环境下运行，还原性气体如CO和H2的浓度增加且废气气体下降。

第l一，熔渣流动和矿石的还原速率限制了高炉生产率。因为熔渣流动和矿石还原速率的限制被解除了，使氧气高炉的生产率可达到传统高炉的两倍。

第二，大量的粉状煤注入到鼓风口，注入的同时焦比下降。由于纯氧的燃烧，氧气高炉的燃烧效率更高，因此氧气高炉能够在更高的粉煤率和更低的焦比下运作。

第三，高纯氧气高炉能够产生比传统高炉具有更高热值的高炉气。传统高炉和氧气高炉中的高炉气的热值分别为3.0MJ/Nm3和6.4MJ/Nm3。高热值的高炉气在其它工艺中能得到有效的利用，例如动力装置和作为某种化学资源。

管道阀门及连接

气体管道普遍采用球阀、隔膜阀和波纹管阀，根据气体纯度、***性和可燃爆l炸性要求选择相适应的阀门。纯度在99.9999％以内的气体管道，采用304不锈钢球阀，特种气体，可以采用法兰连接，法兰垫片为软金属垫片、聚四氟乙烯垫片。总杂质含量≤10ppm的气体管道，采用隔膜阀和波纹管阀。可燃爆l炸性的气体必须采用波纹管阀。阀门采用卡套连接，软金属整片。由于隔膜阀具有波纹管阀相同的密封性能外，还具有阀内死空间小、容易吹除干净、污染小等突出特点，总杂质含量≤lppm纯度要求极为严格的管道以及***性极大的气体管道，推荐使用隔膜阀。阀门采用VCR卡套连接，软金属垫片。

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