湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），***制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。

辉光离子渗氮的特点有：可节约能源和氨的消耗量，电能消耗为气体氮化的1/2～1/5，氨气消耗为气体氮化的1/5～1/20。低气压下的辉光放电虽然可以处理这些材料，但存在成本、处理效率等问题，目前无***模化应用于纺织品的表面处理。易于实现局部氮化，只要设法使不欲氮化的部分不产生辉光即可1，非渗氮部位便于保护，采用机械屏蔽、用铁板隔断辉光，即可保护。

在射频辉光放电空间中，高频电子震荡已能产生足够的工作气体电离，对二次电子发射的依耐性减少了。溅射靶起辉放电后，当电源的输出脉冲的重复频率足够高时，由于真空腔体内的导电离子还没有完全被中和完毕，第二个(以后)重复脉冲的复辉电压与溅射靶的工作电压接近或相同。射频磁控溅射气体放电时等离子阻抗低，工作气体击穿点火电压和维持异常辉光放电电压比中频靶电源时又要降低很多(点火电压只有直流放电等离子辉光放电时的五分之一~八分之一)。??

磁控靶射频放电的阴极是电容耦合电极，阳极接地;射频电压可以穿过任何种类的阻抗，所以电极就不再要求是导体；电容耦合穿过绝缘材料或空间，电极就不再限于导电材料，可以溅射任何材料，因此射频辉光放电广泛用于绝缘或介质材料的溅射沉积镀膜。

在放电开始前间隙中必须存在大量的种子电子，而长寿命的亚稳态及其彭宁电离可以提供这些种子电子。根据10ns暴光的ICCD拍摄的放电图像，Radu小组发现，在大气压惰性气体He、Ne、Ar、Krypton的DBD间隙中，可以实现辉光放电。