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半导体侧泵激光打标机：使用波长为 808nm 半导体激光二极管泵浦 Nd: YAG 介质，使介质产生大量的反转粒子在Q开关的作用下形成波长1064nm 的巨脉冲激光输出，电光转换

半导体端泵激光打标机：直接从激光晶体的端面将半导体泵浦光（808nm）泵入，经光学镜组输出产生激光。使行光转换效率大大提高/光纤激光打标机：由光纤直接输出激光

激光打标机是利用激光束在各种不同的物质表面打上永l久的标记。打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质，或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化而'刻'出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图案、文字。

常见的应用是刻制各种产品的金属铭牌和商标，在产品零件上打上标记，刻制各种图章。计算机控制系统计算机控制系统是整个激光打标机控制和指挥的中心，同时也是软件安装的载体。由于激光打标机可雕刻金属及多种非金属材料，且精度较高，更适合应用于一些要求更精细、精度更高的场合。应用于电子元器件、集成电路（IC）、电工电器、手机通讯、五金制品、工具配件、精密器械、眼镜钟表、首饰饰品、汽车配件、塑胶按键等表面加工。

激光器由封闭在泵浦腔中的工作介质和泵浦源构成。之所以说相对，是指相对于co2激光打标机、半导体激光打标机、光纤激光打标机来说绿激光热辐射效应更小。泵浦源将工作介质从能量基态“泵浦”到激发态。如果在两激发能级间实现“粒子数反转”，则可产生受激辐射，通过在光学谐振腔中谐振（来回反射）得到放大，其中一部分放大了的电磁辐射输出就形成了激光。光学扫描器分为X方向扫描系统和Y方向扫描系统，每个伺服电机轴上固定着激光反射镜片。

激光器由封闭在泵浦腔中的工作介质和泵浦源构成。泵浦源将工作介质从能量基态“泵浦”到激发态。例如，电子工业中使用准分子激光器在基底材料上沉积化学物质薄膜，在半导体基片上开出狭窄的槽。如果在两激发能级间实现“粒子数反转”，则可产生受激辐射，通过在光学谐振腔中谐振（来回反射）得到放大，其中一部分放大了的电磁辐射输出就形成了激光。激光器的工作介质可以是气体、液体或固体。大多数气体激光器的工作介质由原子、分子或两者的混合组成。固体激光器由原子或掺杂在某些晶体中的离子组成。而液体激光器溶解在液体中的大分子量的分子组成。在特定条件下，所有这些工作介质都可以实现“粒子数反转”，并产生某一波长的激光输出。