相对湿度在35%－40%之间能够作为一个令人满意的折中，半导体无尘车间、洁净室一般都运用额外的操控装置以约束静电荷的堆集。许多化学反响的速度，包含腐蚀的进程，将跟着相对湿度的zeng高而加速。一切暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的外表都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些外表是由能够与水反响的薄金属涂层组成时，高湿度能够使反响加速。幸运的是，一些金属，例如铝，能够与水构成一层维护形的氧化物，并阻止进一步的氧化反响；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有维护才能的，因而，在高湿度的环境中，铜制外表更容易遭到腐蚀。

无尘室内该如何防止微粒子污染呢？应遵守下列基本原则：若能彻底实施“不携入”技术，无尘室内的洁净度就可以维持。但现实中人和物品的频繁出入及制造机台的掣动，在广大的无尘室内要有完全洁净度是不可能的。因此“不储备”技术快速地在过滤器中应用以除去已发生的微粒子变得非常重要。通常已发生的微粒子会依据重力及静电吸附力而停留在周边的物体表面。突发性的振动及不稳定的气流会使这些累积微粒在空气中再度扬起，增加了重大微粒子污染的***性。

净化室工程共包含下列功用室：主实验室：该实验室为主体实验室，规划的净化等级为三十万级—十万级。更衣室：该实验室用于放置更衣柜，进主实验室之前的替换衣服和鞋运用。缓冲室：该实验室为ICP仪器室的一个缓冲室，用作隔离实验室外部的尘土充满到仪器室内。风淋室：思考更高净化等级的请求，关于本实验室的实际请求，能够不选用。