钕铁硼滚镀生产多采用“一槽多筒”的形式（如“一拖四”四头机），当某只装载零件的滚筒在不带电的情况下入槽时，会因其他滚筒正在运行而产生双性电极现象，则零件上有电流流出的一面发生阳极反应而氧化，因此给镀层结合力带来隐患。

而如果采用“单槽单筒”形式生产，因不具备形成条件则无法产生双性电极现象。类似的情况在普通钢件滚镀双层镍时也会发生，现象为两层镍间结合力差而起皮。这种情况因较隐蔽容易被忽视，希望相关人士引起注意。

，钕铁硼、钐钴永磁材料的应用领域也在不断的开发，随着科技的进步，稀土永磁材料的应用领域也越来越广泛。信丰磁材产品运用在各行各业，现按照永磁材料的功能可以举出以下部分应用实例：

3、机械能的变换方面：利用磁体吸引力的有：磁吸盘、磁力搬运、磁分离装置、磁力传动、磁吸附夹具、活塞泵等；利用磁体之间的吸引力和排斥力的有：磁轴承、磁搅拌、磁悬浮、磁性离合器等；利用永磁体与导体上感应涡流的作用力：功率表、速度计、电度表、涡流驱动装置等。

铁硼镀镍一般采用“镍 铜 镍”（即“预镀镍 中间铜 面层亮镍”）镀层组合体系。

预镀镍的

目的是为后续镀铜提供一层电位较正的、结构致密的底镀层，保证后续铜的正常施镀，防止基体被镀铜液腐蚀，渗镝渗铽，主要关注镀层与基体的结合力、深镀能力等。

预镀铜的结合力、深镀能力更好，但难以用于钕铁硼基体的打底，渗镝渗铽，因为目前的预镀铜工艺属于络合物镀液类型，溶液电流效率低，在疏松多孔的钕铁硼基体上无法获得连续的、合格的铜镀层。

钕铁硼预镀镍多采用瓦特镀镍工艺，适量使用半亮镍添加剂，使用添加剂的目的并非追求亮度，宁波渗镝渗铽，而是可使用大的电流密度，利于镀层的快速沉积。瓦特镍同样属于简单盐镀液类型，因需要在钕铁硼基体上直接施镀，渗铽渗镝工艺应用，多项要求（如镀液、滚筒及操作等）与钕铁硼镀锌大致相同。

面层亮镍多采用标准的光亮镀镍工艺，目前的亮镍工艺已足够成熟，不再多述。少数厂家使用氨基酸盐镀镍工艺。

一般，钕铁硼预镀镍层平均厚度要求不低于4～5μm，以保证零件低区镀层完全覆盖，防止后续镀铜液的腐蚀。面镍层厚度8～10μm，以保证镀层的抗腐蚀能力。这样，镍层总厚度达到12～15μm。镍属于铁磁性金属，其镀层不仅不产生磁性输出，还会屏蔽钕铁硼磁体的磁性输出，镀层越厚屏蔽作用就越大。

以目前的钕铁硼“镍 铜 镍”镀层组合体系，对于0.5g以下的小尺寸磁体，可使其磁性能衰减10～15%。如何减少电镀镍层的使用量但又不影响后续镀铜和镀层防腐，是解决或改善问题的关键，此为钕铁硼镀镍的一大难点。

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