洁净度等级要求高,风量、温度、湿度、压差、设备排风按需受控,照度、洁净室截面风速按设计或规范受控，另外该类洁净室对静电要求极其严格。无尘电子车间的设计要求：1、无尘车间系统室内的空气净化系统可分为水平层流，垂直层流和乱流，选择气流形式一则参照惯例，二则取决于房间的工作参数。其中对湿度的要求尤甚。因为过于干燥的厂房内极易产生静电，造成CMOS集成损坏。一般来说，电子厂房的温度应控制在22℃左右，相对湿度控制在50-60%之间（特殊无尘车间有相关温湿度规定）。这时可有效地消除静电，并使人也感觉舒适。芯片生产车间、集成电路无尘室和磁盘制造车间是属于电子制造行业洁净室的重要组成部分，由于电子产品在制造、生产过程中对室内空气环境和品质的要求极为严格，主要以控制微粒和浮尘为主要对象，同时还对其环境的温湿度、新鲜空气量、噪声等作出了严格的规定。
●电子制造厂万级洁净室内的噪声级（空态）：不应大于65dB(A)
●电子制造厂洁净室垂直流洁净室满布比不应小于60%，水平单向流洁净室不应小于40%，否则就是局部单向流了。
●电子制造厂洁净室与室外的静压差不应小于10Pa，不同空气洁净度的洁净区与非洁净区之间的静压差不应小于5Pa
● 电子制造行业万级洁净室内的新鲜空气量应取下列二项中的***1大值
● 补偿室内排风量和保持室内正压值所需的新鲜空气量之和。
● 保证供给洁净室内每人每小时的新鲜空气量不小于40m3。
电子制造行业洁净室净化空调系统加热器，应设置新风，超温断电保护，若采用点加湿时应设置无水保护，寒冷地区，新风系统应设置防冻保护措施。无尘室的送风量。
净化车间的构造处理和材料选择应充分考虑不同的净化级别、结构形式及室内建筑设计的要求。光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生***学、医1药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。除了一般的要满足保温隔热、隔音防震等要求外，***1重要的是要保证其气密性和建筑材料表面不产尘、不积尘的要求。另外还要注意装修及***产生的静电效应。净化车间所有的构造设计要力求简洁，尽量减少凹凸和不必要的装饰，表面要具有不产尘、不聚尘和易清扫等特点。因此，对洁净建筑来说，科学的建筑构造、室内装修比建造其他类型的生产厂房更加重要。气密性是厂房围护结构设计的一个关键。气密性不良会导致净化车间空气的外泄和外界污染空气的***，***净化车间室内环境的洁净度。围护结构的气密质量取决于墙、顶棚、门窗以及其他附加配件的构造和施工，这些都是应该引起重视的问题。建筑材料的产尘是一种不可忽视的污染源。实践证明，即使在无碰撞的情况下，建筑材料表面也在不断地向周围空间散发微粒子，而这些都与材料的使用状态、质量、老化程度等有着直接关系。
光电生产车间净化工程就是指不一样级別五金厂洁净车间或电子器件试验室的半导体材料、微电子、光电科技、光学仪器设备、PCB、食品类、磨具等工程项目。较低的湿度比较适合电荷的积累并成为潜在的具有***性的静电释放源。 光学微电子净化工程 别称清静室或洁净室，现阶段已成高精密制造、半导体材料、光学制造、液晶显示屏制造、pcb线路板制造和药业、细胞生物学、食品类制造等制造行业必不可少的关键设备。光学微电子净化工程一般包括1.清洁生产区2.管理区（包括办公室、值勤、管理方法和歇息等）3.清洁輔助间（包括工作人员清洁用地、原材料清洁用室和一部分衣食住行用室等）
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