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当前位置：首页 ? 千屹新闻中心 ? 资讯中心 ? 电镀百科 ? 真空电镀对于镀层的主要要求是什么?真空电镀对于镀层的主要要求是什么?浏览：30 发布日期：2017-10-07 10:26:38【大 中 小】真空电镀对于镀层是有要求的，真空uv镀，千屹电镀厂家下面就为大家介绍一下电镀对于镀层的主要要求是什么。

镀层与基体的结合一定要结实牢固，附着力好，这是一点。另外，真空电镀层要求是完整的，而且结晶细致紧密，孔隙率也要小，这是第二点。第三个，要求有良好的物理、化学以及机械性能并且有符合标准规定的镀层厚度，主要的是，真空电镀的镀层分布要均匀。

真空炉内离子电镀，对于电镀的产品大小也有要求，不能太大，只能电镀小五金件和首饰产品等小型产品，材质也有一定的规定，可以电镀不锈钢、合金、铜等，但是不可以电镀塑料材质。

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恒缘钛金与您分享不锈钢电镀在镀液内对电极表面进行摩擦的方法.

不锈钢电镀使用这种方式的原理是，在镀液中添加固体中性颗粒，让颗粒以一定的速度随着镀液冲击作用在产品表层。这样有一个有点，就是加强了传质过程的同时，也对镀层表面进行了整理。

不锈钢电镀添加在镀液中的颗粒是不会参加电极反应的，塑料真空uv镀价格，只在强搅拌作用下对阴极进行冲刺，这样可以让产品有平整的镀层。

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恒缘钛金与您分享真空溅射镀膜发展与普及，优点膜厚均匀，附着力好

1852年Groveshou次描述溅射这种物理现象，20世纪40年代真空溅射镀膜开始得到使用和开展。60年代后随着半导体工业的迅速兴起，这种技能在集成电路生产工艺中，用于沉积集成电路中晶体管的金属电极层，才真实得以遍及和广泛的使用。

真空溅射镀膜呈现和开展，以及80年代用于制作CD的反射层之后，磁控溅射技能使用的领域得到很好扩展，逐渐成为制造许多产品的一种常用手法，并在近十几年，开展出一系列新的溅射技能。

真空溅射镀膜的优点在于它工艺重复性好，薄膜纯度高，膜厚均匀，附着力好。但无可否认，设备结构杂乱，溅射靶材一旦穿透就会导致整块靶材的作废也是它的缺陷之一，所以靶材的利用率低。

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