具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。洁净***室和洁净辅助用房内必须设置的插座、开关、器械柜等均嵌入墙内，与墙面平齐。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

100级洁净间的气流形式是层流方式，空气以均匀的断面速度沿同一水平方向流动，与流体力学的层流概念不太相同，垂直方向层流并且侧回风。进行精密仪器室设计的同时，也要做好相关配套化学处理室的设计工作，因为这在保护仪器和加强管理上是非常必要的。和百级以上洁净间絮流方式(即空气以不均匀的速度呈不平行流线流动)相比较，它具有效果完全、运转迅速稳定、使得空气的尘埃粒子含量少，控制管理方便容易等优点，但是设备价格高令一些中小厂家难以承受，维护费用也很高。

百级洁净室设计装修参数标准：

1. 洁净度：粒径≥0.1微米的尘埃粒子数量需要小于100个。

2. 压差及温湿度：温度22℃±2;湿度55%±5;基本房间要满布ffu，做高架地板。做MAU ffu DC系统。还有保持正压，相邻房间压力梯度保证在10pa左右。

3. 照度：由于无尘洁净室的工作内容大多有精细的要求，而且又都是密闭性房屋，所以，对照明一向有很高的要求。主要有以下几点：

4. 局部照明：这是指为增加某一地点的照度而设置的照明。但在室内照明中一般不单独使用局部照明。

5. 混合照明：指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成照明，其中，一般照明的照度应占总照度的10%-15%。