氧化锆(YSZ)单晶基片是***早应用于高温超导薄膜的材料之一。一般使用的氧化锆需要掺入钇作为稳定剂,常见浓度有13 mol%,YSZ具有机械和化学稳定性好、成本低的特点。

氧化锆(YSZ)晶体产品规格：常规晶向：lt;100gt;, lt;110gt;, lt;111gt;；晶向公差：±0.5°；常规尺寸：dia2'x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm；抛光情况：单抛或双抛，Ralt;5A。注：可按客户需求定制相应的方向和尺寸。

氧化锆(YSZ)单晶是目前发现的抗辐照能力***强的绝缘体材料，在轻水堆中可用作“燃烧”多余钚的惰性基材以及储存核废物的基体而倍受关注。

氧化锆(YSZ)晶体技术参数。 晶体结构：立方；晶格常数:a = 5.125 ?；密度:5.8 g / cm3；纯度: 99.99%；熔点: 2800°c；热膨胀系数:10.3 x10-6/ °c；介电常数:27；晶体生长方法：弧熔法。

氧化锆由于ZrO2单晶需掺入钇（Y）以稳定其结构， 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂（含量约19%）的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低因而得以广泛应用。常温下保持立方相的氧化锆晶体，具有硬度高(莫氏硬度8~8.5)，折射率高(于6830?处，n≈2.149)，色散性强(~0.056)和化学稳定性好等特性。