高纯气配管技术是高纯气体供气系统的重要组成部分，是能否将合符要求的高纯气体送至用气点仍保持质量合格的关键技术；三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物。所谓高纯气配管技术包括系统的正确设计、管件及附件的选择、施工安装和 试验测试等内容。特别是其中有些气体如SiH4的自燃性，只要一泄漏就会与空气中的氧气起剧烈反应，开始燃烧；还有AsH3的性，任何些微的泄漏都可能造***员生命的危害，也就是因为这些显而易见的***，所以对于系统设计安全性的要求就特别高。

高纯气体定要符合两个条件

1、主体成分含量定压大于某特定值。

2、各杂质组分含量定要小于某特定值。

电子工业用气、仪器仪表校准用的零点气、标准气配制用气、色谱载气等均需符合以上要求, 可列为高纯气体。

高纯气体的纯度= 主体成分含量= 1-∑ 杂质含量。实际上, 用实验的方法直接准确测定高纯气体中主体成分含量是很困难的。既使象二氧化碳这类产品, 可以通过规定的方法, 直接测定得到“纯度值”, 但该值也包含有水分、酸性气体及其它与强碱作用的成分。由于采用双离子电极法测量原理，许多干扰因素会被***，所以测量指示值非常稳定和准确。所以说, 该“纯度”也并非理论意义上的气体纯度。

高纯三氟化氮的基础介绍及行业应用

***概述：

三氟化氮是低毒性物质，但是它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜，腐蚀***。吸入高浓度NF3可引起、呕吐和腹泻。长期吸入低浓度NF3能损伤牙齿和骨骼，使牙齿生黄斑，骨骼成畸形。具有强氧化性。电子工业用气、仪器仪表校准用的零点气、标准气配制用气、色谱载气等均需符合以上要求,可列为高纯气体。与还原剂能发生强烈反应，引起燃烧。与物(如苯)和有机物(如糖、纤维素等)接触会发生剧烈反应，甚至引起燃烧。