直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。相对湿度越高，净化工程价格，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产***佳温度范围为35—45%。现在我们***的经济科技在发展，同时带动了社会各行各业在告诉发展中。以净化工程这个行业为例，在目前呈现一片喜人的发展态势。

1000级 一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等

10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。

100000级，净化工程哪家好，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，车间净化工程，包装厂等。1级：主要应用于电子工业，这是目前对净化工程要求***高的环境，集成电路要求的精度要达到亚微米。随着微电子工业技术领域的突飞猛进，对洁净室的要求越来越高。及时生产间内的例子直径仅有1微米，也会使产品寿命受到影响。现在国内的相关企业很多，所以净化工程企业之间的竞争也很激烈，因为科技的发展使得市场对净化工程的要求高了起来，从以前的价格竞争变成了现在的价值竞争。所以相关的净化工程企业应该提高自身的自主研发能力，不断的发展创新，才能适应这个竞争激烈的市场。

净化工程设计步骤

1.地面、回风地沟和位于地下的技术夹层，应采用防水或防潮、防霉措施。

2.建筑风道和回风地沟的内表面装修标准，应与整个送、回风系统相适应，淮南净化工程，并 应易于除尘。

3、洁净厂房内的密闭门宜朝空气洁净度较高的房间开启。无窗洁 净室的密闭门上宜设观察窗。

4、洁净厂房门窗、墙壁、顶棚、地（楼）面的构造和施工缝隙， 均应采取可靠的密封措施。

5、洁净厂房内的色彩宜淡雅柔和。室内各表面材料的光反射系数， 顶棚和墙面宜为0．6－0．8；地面宜为0．15--0．35。

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