具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求更加高。净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照***相关标准、规范进行。

净化工程验收是如何进行的呢？

1、 功能验收应在竣工验收完成后进行，马鞍山净化工程，由建设单位负责，净化工程***室，并由具有相应检测资质的第三方进行检测。设计、施工单位配合。

2、无尘室净化工程验收的检测状态分为空态、静态和动态。竣工验收阶段的检测宜在空态下进行；功能验收阶段宜在空态或静态下进行．应由建设方、设计方和施工方协商确定，宜在静态下进行；使用验收阶段的检测应在动态下进行。

如何控制无尘洁净室的温度湿度？

湿度过高发生的问题更多，***室净化工程，相对湿度超越55%时，冷却水管壁上会结露，假如发生在精密装置或电路中，净化工程施工，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将经过空气中的水分子把硅片外表粘着的灰尘化学吸附在外表耐难以铲除由于加工精度越来越精密，所以对温度波动规模的要求越来越小。例如在大规模集成电路出产的光刻***工艺中，作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热胀大系数的差要求越来越小。

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