有机废气处理装置：光催化氧化装置

光催化氧化装置的原理和工作条件

光催化氧化装置的原理：光催化氧化反应的原理可以用半导体的能带理论来阐述。以TiO2的催化氧化反应为例，n型半导体粒子纳米TiO2的能带结构一般由低能价带和高能导带构成，价带和导带之间存在禁带。能带和导带之间的带隙能为3.2 ev。当半导体二氧化钛受到能量大于其禁带宽度的光源照射时，其价带的电子就被激发，跃迁到导带，产生原初电荷分离，从而产生导带电子和禁带空穴。这些电子和空穴对迁移到表面后，具有强的接收电子的倾向，可以参加氧化还原反应，直接将有机分子氧化为正碳自由基或将表面现象的水分子氧化为羟基自由基。生成的羟基自由基进攻有机物分子，环保废气处理设备，使之氧化和分解，使有机污染物转化为CO2、H2O和无机盐达到矿化。

光催化氧化装置的工作条件

设备工作是气体环境温度在摄氏60℃以下、湿度在90%以下、无固体粉尘，处理的成分应当只是气体，如湿度及温度过高需作预处理，在废气处理过程中不可有固体粉尘及大量水蒸汽进入设备，这样会直接影响除臭效果，甚至没有效果，光催化氧化停留时间控制在合理范围之内。

喷涂行业废气处理工艺

根据喷漆废气成分结构，一般处理工艺设备流程：气体收集系统-预处理喷淋粉尘系统-废气净化装置系统。在预处理系统设计时，建议多级喷淋洗涤，或者较高的粉尘去除设备（建议机械除尘）；废气净化工艺环节，若是大风量或者高浓度，可考虑进行浓缩，采用催化热力燃烧工艺设备；若是低浓度，风量中等或者偏下，可以采用活性炭吸附脱附。

①喷淋塔 光氧催化 纳米吸附分解

②喷淋塔 等离子设备 风机

③活性炭吸附脱附催化燃烧设备

废气处理设备分为几个类别：

1、吸收设备

吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对 VOCs进行吸收，废气处理设备价格，再利用VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分离。

2、吸附设备

在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附。吸附处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质，多孔固体物质称为吸附剂。

3、有机废气的燃烧及催化净化设备

燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含 氯和含 硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理。

4、光催化和生物净化设备

光催化是常温深度反应技术。 光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成***无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。

5、工业有机废气的低温等离子体的治理设备

等离子体就是处于电离状态的气体，废气处理设备公司，其英文名称是pla***a，它是由美国科学 muir，芜湖废气处理设备，于1927年在研究低气压下蒸气中放电现象时命名的。等离子体由大量的子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等组成，但电子和正离子的电荷数必须体表现出电中性，这就是“等离子体”的含义。

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