正确维护***纯水处理设备的重要性解析
在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。2、可用氢氧化铵和无机酸等两方面调节PH值,必须注意PH值测量一定要保证正确可靠。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,***(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中***高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括***)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
超纯水设备系统分析与调整
超纯水设备系统的产水率主要依赖主要系统的回收率来保证:www.szbion.cn自清洗过滤器的回收率为99%,UF系统回收率为90%,一级RO系统回收率为75%,二级RO系统回收率为90%。2、玻璃清洗专用超纯水设备的正常运行:在使用设备是要先连接电源,检查管道是否漏水,然后接通电源。但在实际的运行中,受设备状态和工艺用水需求的影响,系统消耗的水量要大于设计水量,回收率没有达到设计的要求。
1、用给水冲洗反渗透系统,同时注意将气体从系统中完全排除。
2、将压力容器及相关管路充满水后,关闭相关阀门,防止气体进入系统。
3、用水配制好浓度为0.5-0.7%的甲醛溶液,调整PH在5-6之间。
4、启动清洗水泵,以45-58m3/h的流速对反渗透进行冲洗。
5、从反渗透浓水排放取样化验,当甲醛含量达到0.5%时,即可停止冲洗水泵运行。
6、关闭反渗透系统所有的进、出口门以保证系统内充满合格的甲醛溶液。
7、反渗透膜元件应保存在温度为0度以上的环境中。
1、每天的工作完毕之后对大型工业纯水设备进行线上清洗处理,将设备内部剩余的水、污染物、渣1子等冲洗干净之后停机。
2、制定大型工业纯水设备的清洗规格表,定期要对设备的过滤网、过滤器、PP滤芯、反渗透膜进行清洗。
3、每天对大型工业纯水设备进行检查,记录设备状态,一旦出现滴漏现象应及时处理。
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