实验室超纯水设备基本工艺流程和指标

超纯化后处理系统

紫外线杀菌灯与TOC紫外消***

紫外线杀菌灯采用254nm波长的紫外线照射杀菌，可有效***微生物的DNA分子，使之形成TT两聚体而无法繁殖，是空气、水安全有效的常用灭菌方法。当原水通过离子交换柱时，水中的阳离子和水中的阴离子(HCO3-等离子)与交换柱中的阳树脂的H 离子和阴树脂的OH-离子进行交换，从而达到脱盐的目的。TOC紫外消***采用可同时产生185nm/254nm双波长的紫外线灯管，其中185nm紫外线在空气中可产生臭氧而杀菌除味，在水中会产生氢氧自由基，可将纯水中微量有机物迅速氧化为CO2，达到去除TOC的目的。

正确维护***纯水处理设备的重要性解析

随着工业化的普及，纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。4、固体清洗剂必须充分溶解时候，再添加其它的化学***，进行充分混合后才可以进入反渗透纯水设备。在电子元器件生产中，高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。

在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水。

正确维护***纯水处理设备的重要性解析

在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。EDI超纯水设备的性能优势全自动双级反渗透 EDI 抛光混床是当今***的处理技术，而EDI是超纯水制取设备中的总要组成部分。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中***高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括***)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。

化妆品超纯水设备中的膜元件清洗后产水质量没有改善的原因

1、化妆品超纯水设备中的膜元件是否破损。

2、化妆品超纯水设备中的某种预处理材料是否失效。

3、清洗膜元件时并未清楚膜元件是受哪种物质污染的以及污染程度如何，而对症下药。

因此，我们在清洗化妆品超纯水设备中的膜元件之前，一定要认真分析污染物及判断膜元件的污染程度，设计合理的清洗方案，才能够使膜元件***正常的性能。