正确维护***纯水处理设备的重要性解析

在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。清洗用超纯水设备压力过高的解决方案1、采用增加上游处理水的压力，依据RO进口截止阀调整浓水以及产水压力。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中***高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括***)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。

化妆品超纯水设备中的膜元件清洗后产水质量没有改善的原因

1、化妆品超纯水设备中的膜元件是否破损。

2、化妆品超纯水设备中的某种预处理材料是否失效。

3、清洗膜元件时并未清楚膜元件是受哪种物质污染的以及污染程度如何，而对症下药。

因此，我们在清洗化妆品超纯水设备中的膜元件之前，一定要认真分析污染物及判断膜元件的污染程度，设计合理的清洗方案，才能够使膜元件***正常的性能。

化工用纯水设备停运五天该做哪些处理

1、用给水冲洗反渗透系统，同时注意将气体从系统中完全排除。

2、将压力容器及相关管路充满水后，关闭相关阀门，防止气体进入系统。

3、用水配制好浓度为0.5-0.7%的甲醛溶液，调整PH在5-6之间。

4、启动清洗水泵，以45-58m3/h的流速对反渗透进行冲洗。

5、从反渗透浓水排放取样化验，当甲醛含量达到0.5%时，即可停止冲洗水泵运行。

6、关闭反渗透系统所有的进、出口门以保证系统内充满合格的甲醛溶液。

7、反渗透膜元件应保存在温度为0度以上的环境中。