相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，空气净化工程，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。我们***的空气分子控制等的技术正在朝有利的方向发展，这项技术原先是由日本发展起来的，现在已经受到了全世界的关注和认可，在我们***，这项技术已经受到了相关行业的重视并且投入研发，相信在不久的未来，无菌室净化工程，我们***的相关科研人员一定会在这个领域取得让人满意的成绩，为我们***的净化工程行业做出贡献。而随着净化技术的发展，建设净化车间的技术含量也越来越高，非***人士不能也。除了在生产领域，净化工程技术还会逐渐应用于家庭、公共场合，为人们提供更洁净的生活空间

净化工程为什么要控制温湿度?主要作用是什么，具体有什么措施?净化工程洁净室的温湿度主要是根据您的加工工艺要求来确定，在满足加工工艺的条件下，首1选应该考虑人的舒适感。随着空气洁净度要求的提高，工艺对温湿度的要求也越来越高，必须达到一定的温湿度等级。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

净化工程洁净空调设计计算的一般步骤，根据工艺要求确定净化工程厂房的洁净度等级，选择气流流型，安徽净化工程，并决定采用全室空气净化还是局部空气净化。相对来说，非单向流和局部空气净化投1资较小，应尽量避免采用全室空气净化。设置空气净化范围的原则。a、净化工作台全室空气净化是采用集中净化空调系统在整个房间内造成具有相同的洁净度环境的净化处理方式，这种方式适用于工艺设备高大，数量多，且室内要求相同洁净度的场所。全室空气净化投1资大、运行管理复杂、建设周期长，因此采用时必须谨慎，应尽量避免采用。

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