有机废气处理办法知多少

ben类化合物不仅会对***的中1枢***造成一定的损害，除臭治理公司，而且还可能造成***系统的障碍，进入***后还会危害血液和造血器1官，如果情况比较严重，甚至会有出血症状或患上败1血症。氧化作用下，ben在生物体内可氧化成ben酚，从而造成肝功能异常，对骨骼的生长发育十分不利，诱发再生障1碍性贫1血。如果ben蒸汽浓度过高，安徽除臭治理，生物可能因急性中1毒而死1亡。因此，ACGIH把ben列为潜在致***物质。卤代烃类化合物会引发***症1候群和血小板的减少、肝1脾肿大等不良状况，而且很有可能致***。所以，必须控制VOC的排放，这不仅是对环境负责，也是对我们的生命健康负责。

半导体行业有机废气和***的来源

半导体制造工艺产生的挥发性有机废气，主要来源于光刻、显影、刻蚀及扩散等工序，在这些工序中要用有机溶液（如异丙1醇）对晶片表面进行清洗，其挥发产生的废气是有机废气的来源之一；同时，工业废气除臭治理，在光刻、刻蚀等过程中使用的光阻剂（光刻胶）中含有易挥发的有机1溶剂，如醋酸丁酯等，污水厂除臭治理，在晶片处理过程中也要挥发到大气中，是有机废气产生的又一来源。

与半导体制造工艺相比，半导体封装工艺产生的有机废气较为简单，主要为晶粒粘贴、封胶后烘烤过程产生的烘烤废气。

含***性废气，其来源为化学气相沉积、干蚀刻机、扩散、离子布值机及磊晶等制程时所产生。主要成分是磷1化氢、shen化氢、氯1气等。

废气治理工艺

废气治理，废气治理工程中产生的恶臭成分主要是由蛋白质、脂肪、碳水化合物的微生物呼吸、发酵过程的产物和不完全产物、一般分为一下三类:1.含硫化合物——硫1化氢、硫1化钾、甲1基硫醚等;2.含氮化合物——氨三1甲1胺;3.碳、氧或碳、氢、氧组成的化合物——低级醇、醛、脂肪酸。

恶臭气味主要产生环节在于进水格栅、调节池、曝气尘沙池、厌氧池、缺氧池、曝气池、污泥浓缩池和污泥中转等工序。

治理工艺：光催化氧化、生物氧化、活性炭吸附、低温等离子、洗涤法。

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