由于氢1氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢1氟酸也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；在量筒、滴定管等玻璃化学仪器内表面进行刻度或加字，也是采用这种方法。半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和正丁烯的烷1基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢1氟酸。氢1氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟1乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。

由于***溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。***也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，***和熔融氢氧1化钠都能用于微丝表面玻璃包覆层的去除，室温下***去除厚度为10μm的玻璃包覆层的时间大约为150s，熔融氢氧1化钠大约需要10 s；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，***也用于多种含氟有机物的合成。玻璃的成分和结构是影响玻璃包覆纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。

***的处理方法

***灼伤后的中和方法不少，总的原则是使用一些可溶性钙、镁盐类制剂，使其与氟离子结合形成不溶性氟化钙或氟化镁，从而使氟离子灭活。现场应用石灰水浸泡或湿敷易于推广。氨水与***作用形成具有腐蚀性的二氟化胺，故不宜作为中和剂。***灼伤治1疗液（5％氯化钙20ml、2％利多卡i因20ml、地i塞米松5mg）浸泡或湿敷。以冰***镁饱和液作浸泡。镁：在含HFS5%（质量）的水溶液中，表面会生成氟化镁保护膜而耐腐蚀。