一、有关层流***室的建筑布局、基本装备、净化空调系统和用房分级等应符合《***洁净***部建筑技术规范》的标准。
二、进入到***室清洁区后、洁净区域内的人员应更换专用的洁净服。
三、洁净***部各区域的缓冲区,需要设有明显的标识和屏障,各自区域的门应该时刻保持关闭的状态,并有连锁装置,不可同时打开出、入门。
四、洁净***室温度应控制在22oC~25oC,相对湿度为40%~60%,噪声为40~50分贝,***室照明的平均照度为500LX左右。
五、洁净***部的净化空调系统应当在***前30分钟开启;洁净***部的净化空调系统应当连续运行,直至清洁、消毒工作完成。Ⅰ~Ⅱ级用房的运转时间为清洁、消毒工作完成后20分钟,Ⅲ~Ⅳ级用房的运转时间为清洁、消毒工作完成后30分钟。
六、对洁净区域内的非阻漏式孔板、格栅、丝网等送风口,应当每周进行清洁,若有污染应随时清洁。
七、对洁净区域内回风口格栅应当使用竖向栅条,每天擦拭清洁1次,每周彻底清洁,******室净化,若有污染应随时清洁,对滤料层应按表3要求更换。
八、负压***室每次***结束后应当进行负压持续运转15分钟后再进行清洁擦拭,达到自净要求方可进行下一个***。过滤致病气溶胶的排风过滤器应当每半年更换一次; 九、对凝结水的排水点应当每天检查,并每周进行清洁。
净化***室对温度的规定展现日渐减少的发展趋势。比如在规模性集成电路芯片生产制造的光刻曝出加工工艺中,张掖***室净化,与细胞壁的长链脂肪酸双键起反映,撑破细胞壁,进到细胞壁内,***于壳子脂蛋白和里面的脂多糖,使体细胞的渗透性发生更改,***终造成体细胞融解、萎缩。速率很快,消灭不一样病菌有不一样的浓度值阀值。净化***室工程项目环境湿度过高造成的难题大量。相对湿度超出55%时,冷却循环水壁厚上面冷凝水,假如发生在高精密设备或电源电路中,***室净化空调,就会造成各种各样安全事故。相对湿度在50%***易锈蚀。除此之外,环境湿度太高时将根据气体中的氧分子把硅片表面黏着的尘土有机化学吸咐在表面耐无法消除。相对湿度越高,黏附的难除掉,但当相对湿度小于30%时,又因为静电力的***使物体也非常容易吸咐于表面,另外很多集成电路工艺非常容易发生热击穿。针对硅片生产制造温度范畴为35—45%。
无菌室净化设备的检查
用于无菌检查的主要仪器设备有:KLC超净工作台、风淋室、集菌仪、生物安全柜、高压蒸汽灭菌器、电热恒温干燥箱、隔水式恒温培养箱、生化培养箱、立式冷藏柜和生物显微镜等。
上述仪器设备中,温度设备应进行校准或验证,超净工作台和生物安全柜应进行性能确认。校准、验证和确认的频次通常为每年。
温度设备的校准
对培养箱、干热灭菌器等温度设备,应进行热分布和热均匀性等指标的检定;对湿热灭菌设备应检定安全阀、压力表等安全装置,同时应采用生物指示剂进行有效性确认。
超净工作台和生物安全柜的性能确认:应进行洁净度和微生物数的测定,生物安全柜还应该进行h气流流型和压差测定。
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