济南蓝光同茂蚀刻设备厂在印制电路工业的传统知识里，特别是印制电路质料的供货商们，我们公认，氨性蚀刻液中的一价铜离子含量越低，反应速度就越快.这已由履历所证明。事实上，许多的氨性蚀刻液产品都含有一价铜离子的特别配位基(一些凌乱的溶剂)，其效果是下降一价铜离子(这些就是他们的产品具有高反应才华的技能窍门 )，可见一价铜离子的影响是不小的。将一价铜由5000ppm降至50ppm，蚀刻速率会进步一倍以上。

由于蚀刻反应进程中生成许多的一价铜离子，又由于一价铜离子总是与氨的络合基紧紧的结合在一同，所以坚持其含量近于零是十分困难的。通过大气中氧的效果将一价铜转换成二价铜可以去除一价铜。用喷淋的方法可以抵达上述意图。

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