等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新，北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、***封装、功率半导体等领域可提供***装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力，其中应用于集成电路领域的硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂，其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的。

蚀刻的类型 要留意的是，蚀刻时的木板上边有双层铜。在表层蚀刻工艺中只是有一层铜是必须被如数蚀刻掉的，别的的将组成终归所要求的电源电路。这类种类的图型电镀工艺,其特点是镀铜层仅存有于铅锡抗蚀层的下边。 别的一种工艺方式 是全部木板上面镀铜，光感应膜之外的一部分只是是锡或铅锡抗蚀层。这类工艺称之为“全板镀铜工艺“。

产品特点

1.激光蚀刻为干式蚀刻，加工制程简单，所有加工均由软件自动控制，产品一致性高，良率高达99%，无耗材，环保，可靠稳定。

2.CCD相机自动***，加工精度高。

3.设备操作简单，图档更新方便，制程缩短，稼动率高。

4.设备控制软件能够实现自动图档分割，移动拼接加工，拼接精度可达±3μm

5.耗电量省，操作人员少，无污染，生产成本低。