等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新，北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、***封装、功率半导体等领域可提供***装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力，其中应用于集成电路领域的硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂，其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的。

激光蚀刻机

应用行业

1.手机、车载、平板、智能穿戴，点餐机等触控屏GF，GFF，OGS。

2.车载触控屏体的OGS上导电膜层的刻蚀。

3.薄膜太阳能电池、钙钛矿电池等光伏行业。

4.新兴能源行业，如电致色调光玻璃等。

5.发光玻璃、户外显示玻璃、显示柔性薄膜等。

6.白玻璃激光刻蚀线槽、划线、打孔（导流）

7.其他显示屏。

产品特点

1.激光蚀刻为干式蚀刻，加工制程简单，所有加工均由软件自动控制，产品一致性高，良率高达99%，无耗材，环保，可靠稳定。

2.CCD相机自动***，加工精度高。

3.设备操作简单，图档更新方便，制程缩短，稼动率高。

4.设备控制软件能够实现自动图档分割，移动拼接加工，拼接精度可达±3μm

5.耗电量省，操作人员少，无污染，生产成本低。