在芯片制造领域，光刻机和蚀刻机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻，光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，这两个东西都必须。

而在光刻机方面，与世界的7nm制程都相去甚远。不管三星、英特尔还是台积电在芯片制程工艺方面如何去竞争，但A***L终究是背后霸主，赢家，因为他们谁都离不开他的EUV光刻机。而国产光刻机还在路上，目前我国已经能够使用365纳米波长的光生产22纳米工艺的芯片，这在全世界尚无先例，它也被称为世界上首台分辨力的紫外超分辨光刻装备。这也意味着国产光刻机可以使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。

从光刻机还是蚀刻机，至少可以看得出来国产芯片已经取得了非常大的成就。

中微半导体7nm蚀刻机的量产，直接迈入世界行列，5nm蚀刻机也在实验阶段。而光刻机方面已迈入22纳米。

我们也相信如果光刻机与蚀刻机纷纷取得进展，也将成为如果挑战台积电、三星、英特尔背后大霸主的有力筹码。至少“科技自立”下，实现芯片研发国产化、加工制造本土化。那个时候，将会造福诸如华为、小米、OV等国产手机。

蚀刻

1.化学蚀刻

蚀刻液一般都是强酸或强碱。尽可能使反应快速完成，一般蚀刻速度为0.04mm/分钟，蚀刻速度越快，侧蚀的程度就越小，所得到的工件精密度就越高。

2.电化学蚀刻

把工件做阳极，在电解液中通电，工件上未被保护部位因作阳极而溶解，从而达到蚀刻的目的。电化学蚀刻的蚀刻速率一般由工件表面的电流密度来控制。

对于蚀刻完成既为成品的产品，直接退去保护油墨。要根据所采用的油墨性质来选用脱墨液：

1.对于水性油墨，可采用20%水溶液/50~60℃浸泡约十分钟，然后擦拭，去除油墨。

2.对于油性油墨，要用进行浸泡约十分钟，然后进行擦洗去除。

对于蚀刻的成品，进行手工填漆、电泳涂装或者电镀，从而形成同一平面两种双色甚至多种颜色的外观效果