“这俩机器的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉,这样看起来似乎没什么难的,但是有一个形象的比喻,每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂,这就是这光刻和蚀刻的难度。”

光刻机的工作原理是在硅片上涂上一层均匀的光刻胶，这种胶状物，只能被光腐蚀，而不能被化学物质腐蚀，然后利用紫外线照在上面，其中还包含了编码，用光把不需要的地方腐蚀掉，用光刻技术制作出自己需要的图形。蚀刻机被用来在光刻机“复印”到晶圆的电路轮廓上进行雕刻，蚀刻出“山地和沟壑”，形成栅极，也就是常说的晶体管。便于大家理解，简单来说，光刻机是在一块木头上作了一幅画，而蚀刻机就是根据光刻机的画雕刻出3D的作品。但实际上过程并不是我们形容的那么简单。目前我国中微半导体在蚀刻机方面也是取得了重大成果。

光刻技术，重头戏是物理技术，光刻的前道工序如涂胶，后道如显影，都是化学技术，对机器要求不算高。唯独***工序才是难的，其中难又在于光刻机，也就是一只巨型单反相机，其光源和镜头，还有控制技术估计已经是人类的极限了，巨难做。刻蚀说得形象点就是沿着***图形刻槽，化学成分比较大，并不算十分关键的设备，我朝的刻蚀机技术还是很不错的。

金属蚀刻就是先在基板上用丝印或网印的方式把基板上需要保护的部位遮住，然后用化学或电化学方式侵蚀掉不需要的部位，后退去保护膜，得到制品的一种加工方式。

是生产标牌、电路板、金属工艺品、金属版画等过程中的关键步骤。的技术工业生产应用是在印刷丝路版，因丝路板的丝线细而密，机械加工很难完成。不同的金属材料，性质各不相同，蚀刻图型的精度不同，蚀刻深度不同，所采用的蚀刻方法、工艺以及所用蚀刻液的配方大不一样，所采用的感光抗蚀材料也各不相同。