在芯片制造领域，光刻机和蚀刻机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻，光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，这两个东西都必须。

而在光刻机方面，与世界的7nm制程都相去甚远。不管三星、英特尔还是台积电在芯片制程工艺方面如何去竞争，但A***L终究是背后霸主，赢家，因为他们谁都离不开他的EUV光刻机。而国产光刻机还在路上，目前我国已经能够使用365纳米波长的光生产22纳米工艺的芯片，这在全世界尚无先例，它也被称为世界上首台分辨力的紫外超分辨光刻装备。这也意味着国产光刻机可以使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。

可以采用满版印刷、刷涂、滚涂或喷涂的方式，对油墨涂层的均一性要求不是很高，只要能保证涂层能够在蚀刻时对产品需保护部位得到充分的保护。

此工序和制作网板中的涂布工序差不多，只是制作网板是在网砂上涂感光油墨，而金属蚀刻是直接在工件表面涂布

热风预烘干（30-40℃，10-15分）

目的只是防止***时感光油墨粘住菲霖。要在暗室中进行操作。

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高压灯、碘灯、金属卤素灯。

时间：二十秒左右，抽真空；根据工件的精度要求适当调整***时间。精度要求越高，***时间要适当缩短

显影

对于水光油墨，可采用1%碳酸钠水溶液或直接用清水，温度25-30℃，手工显影或喷射显影。

对于油光油墨，可采用进行手工显影或喷射显影。

硬烘、刻蚀等工序，Photolithography（光刻）意思是用光来制造一个图形。（工艺）；在硅片外表匀胶，然后将掩模版上的图形转移光，刻胶上的将器件或电路结构暂时“”到硅片上的过，程。光刻的目的，使表有疏水性，增强基底外表与光刻胶的黏附性，丈量台、台承载硅片的作业台。也便是本次所说。的双作业台，光束纠正器纠正光束入射方向，让激光束尽量平行，能量操控器操控终照硅片上的能量，缺少，或过足都会严重影响成像质量。光束形状设置设置光束为圆型、环型等不同形状，同的光束状况有不同的光学特性。遮光器在不需求的时分。

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15世纪左右，人们主要把蚀刻机技术技术应用到盔甲的加工上，制造盔甲的的工匠们把一些防腐蚀的物质图与工件表面。既可以做标记也可以起到防腐蚀的作用。也有可能是这些防护层损坏形成的锈斑起到了标记的作用，使人们得到了启示进而改进慢慢掌握蚀刻机技术技术。刚开始的铠甲、头盔、等护甲上的图案用手工雕刻的方式很难做上去，人们只有寻求很快很便捷的方式去加工，通过不断的实验发现了酸可以腐蚀金属，而又发现可以抗酸防腐的材料，终在铠甲花纹制作上开始运用化学腐蚀工艺。

关于把蚀刻机技术工艺用于金属上，早的文字记载是出现在15世纪的一份英国手抄本上面，它描述是一种用盐、活性炭和醋所配置的蚀刻机技术液，和一种亚麻仁油组成的涂层做防护保护层。加工时，先把防蚀刻机技术材料按照成品工件样式涂上保护区图案，区域的金属就被酸所腐蚀咬掉。在往后就是用***一点的石蜡和天然树脂做防护层。使用这种方法时，先要在整个材料上涂上石蜡，然后把需要雕刻腐蚀的地方的石蜡刮下来，这就是台阶式化学腐蚀或外形腐蚀加工的起源。