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如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以***的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和***来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。

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用HF（ ）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得***在水中不能完全电离。

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***也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。

***和熔融都能用于微丝表面玻璃包覆层的去除，室温下***去除厚度为10 μm的玻璃包覆层的时间大约为150s，熔融大约需要10 s；玻璃的成分和结构是影响玻璃包覆纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。

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