微弧氧化膜层性能检测

微弧氧化膜层性能检测仪器膜层的性能检测包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。采用德祸流测厚仪对氧化陶瓷膜的厚度进行检测；微弧氧化的工艺参数微弧氧化的工艺参数是指加工件上的外加电压，一般说***终电压决定微弧氧化膜的厚度，它是不断升高而达到的，不能一次性加至***终电压。微弧氧化采用利用显微硬度仪测量膜层表面显微硬度曰利用环境扫描电子显微镜对微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微观结构进行观察。微弧氧化设备、微弧氧化电源、微弧氧化生产线

微弧氧化技术的原理及特点

微弧氧化陶瓷技术是一种在铝、镁、钛等轻金属合金表面原位生长陶瓷层的高新技术。微弧氧化原理是在工件表面生成阳极化膜的同时，通过微电弧瞬时7000K高温把极化膜转为陶瓷相。该陶瓷层硬度高、高耐磨、韧性好、与基体结合力强、耐腐蚀、耐高温氧化、绝缘性好，特别适用于高速运动且需要高耐磨、耐腐蚀、抗高温冲击的轻金属合金零部件。电源输出大电流：5A、10A、30A、50A、100A等可选。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源、微弧氧化工艺

微弧氧化

在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂,至今还没有一个合理的模型能全描述陶瓷层的形成。微弧氧化工艺将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域，克服了硬质阳极氧化的缺陷，极大地提高了膜层的综合性能。微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。如，航空、航天、汽车、船舶、机械、石油、化工、***、电子等行业。

微弧氧化处理形成的陶瓷氧化膜，与基体呈冶金结合，膜层致密，具有良好的耐磨、耐蚀性能。 氧化膜的硬度一般能达到600-1500HV(膜层厚度20-50μm），耐磨性能优于硬质阳极化膜及电镀硬铬。封孔后耐盐雾试验水平可达2000小时以上。该氧化膜还具有良好的绝缘性，耐500V以上的高压冲击，且有效防止电偶腐蚀；第二步：将经靠前步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化15min。氧化膜还具有良好的隔热特性，是铝合金活塞的首要选择。