微弧氧化电源性能指标

微弧氧化电源采用***的双极性大功率脉冲电源，具有效率高、运行稳定、噪声低、对电网干扰小等优点。日照微弧氧化电源、微弧氧化、微弧氧化生产线、微弧氧化设备、微弧氧化技术。微弧氧化电源已获得***发明专利，其特征在于采用多重电网滤波器和变压器隔离的三相平衡供电，利用功率开关元件进行斩波变换，获得脉冲宽度连续可调的大功率正、负脉冲。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化图片、微弧氧化技术设备

阳极氧化膜层与微弧氧化膜层的区别是什么？

由微弧氧化膜层的生长机理可知，阳极氧化是微弧氧化的初级阶段。阳极氧化发生的是化学反应，而微弧氧化除化学反应外，还伴随有电化学、高温等离子体等反应。近十几年来，研发出了多种有效的表面处理工艺技术，大大扩展了镁合金材料的应用范围。其膜层由于是在高温下生成（瞬间高温度超过3K摄氏度），膜层与基体间为冶金结合，因此与基体结合良好。另外，膜层为氧化物瞬间冷凝形成，具有较高的致密度和硬度以及良好的耐腐蚀性能，良好的绝缘性等。但归跟到底，微弧氧化膜层与阳极氧化膜层醉的的差别在于：膜与基体的结合力，膜层内部致密性及相结构。这几种差别引起了微弧氧化膜层与阳极氧化膜层其它方面的性能差异。微弧氧化生产线、微弧氧化电源

微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度？

一般来讲，微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层，膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。经过剧烈的微弧氧化处理之后，铝、镁、钛及其合金的表面上会形成数十或数百微米的陶瓷层。如，一般情况下，铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性，因为从生成物来看，氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁，铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取，如单纯提高膜层的硬度，可能需提高膜层厚度，降低膜基结合力，对膜层整体性能不利。因此，一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整体加以调制，在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如，某镁合金需要耐蚀，可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制，满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。